ISSM2008で楽しみにしている論文
もうすぐISSM（International Symposium for Semiconductor Manufacturing：半導体製造国際シンポジウム）2008が東京で開催されます（１０／２７〜２９）。そこで今日は、私が聞きたいと思っている論文のタイトルを載せます。（敬称略、順不同）
- オンタイムAMHS配達のための時間指定移動コマンドのコンセプト
- Joerg Luebke
- AMD
- 300mmファブにおける１FOUP複数ロットの制御と管理
- Nian-Wei Chan
- Rexchip Semiconductor
- カープール（相乗り？）実行による装置生産性と配達達成の間のウィン・ウィン・アプローチ
- Yih-Yi Lee
- TSMC
- プロセス特定に注目したセットアップ削減によるスループット向上
- Yoshiaki Kobayashi
- Renesas Technology
- R&Dラーニングの加速：技術開発ファブのサイクルタイム削減
- Mike Zhang
- Spansion
- ウェハファブ用複数目的リアルタイム・ディスパッチャの研究
- Asok Kumar
- Sil Terra
- 目標TATを保つための最適負荷割当て方法
- Akira Ono
- Renesas Technology
- 半導体産業のエンジニアリング・チェーンにおける現われつつあるインテグレータ・ビジネスモデルの調査研究：仮想分解の再統合
- Yea-Huey Su
- National Central University
- TSMCとUMCのビジネスモデル構造に関するシステム展望：会社のビジネスモデル設計の基礎
- Yea-Huey Su
- National Central University
- サブストレートとレシピの選択に基づく拡散炉負荷の最適化
- Ketan Khowala
- On Semiconductor
- インライン検査のサイクルタイムと歩留への影響
- Israel Tirkel
- Ben-Gurion University
- 半導体ウェハファブにおける装置群の仕掛のモデル化のためのニューラル・ネットワークによる方法とサイクルタイム削減のためのアプリケーション
- Chung-Jen Kuo
- National Tsing Hua University
- リソクラスタの生産性の継続的改善のためのスキャナ・スループット・モニタリング・システム
- Wei Tai Chen
- UMC
- リアルタイム・インライン・モニタリングと実験計画における最適ウェハ・サンプリングを決定するための方法とシステム
- Susan Sun
- Micron Technology
- 動的にファブ・キャパシティを改善することにおける高度に正確な管理
- kazunori Imaoka
- Spansion
- ウェハファブ内のリソグラフィ装置のための総装置効率(OEE)向上
- Lee Yen-Fei
- Sil Terra
- 半導体装置産業における知識の共有と創造
- Tsuyoshi Moriya
- Tokyo Electron
- マニュファクチャリング・サイエンスの適用によるアセンブリ・テスト工程での顧客応答性の向上
- Joan Tafoya
- Intel
- 300mmファブにおけるゴールデン・スーパー・ホット・ロットのための全自動制御システム
- De Lung Wu
- Rexchip Semiconductor
- ロット内のウェハのTATコスト計算
- Hiroyuki Okumura
- NEC Electronics
- ８インチファブのための手動材料搬送システム
- Wen-Cheng Chen
- TSMC
- ウェハファブ施設の相対効率分析のためのDEAの使用
- Wan Ling Lin
- TSMC
Semiconductor manufacturing technology is reliant on the sum of the total of engineers' experiences and the accumulation of know-how and IP. The complexity of the field prevents a shift to the systematization and universalization of technologies. In order to bring breakthroughs in semiconductor manufacturing to reflect changing and challenging new requirements, the International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM) was launched in 1992.
ISSM is an annual conference of semiconductor manufacturing professionals dedicated to sharing technical solutions and opinions on the advancement of manufacturing science, technologies, and management disciplines. This symposium has been held in Japan and in the U.S. on alternate years since 1992. ISSM aims to establish new concepts for semiconductor manufacturing technologies and to promote them as systemized and universalized technologies. ISSM’s role has been to challenge the concept of shifting from "know-how" to "science" in semiconductor manufacturing technologies. The past twelve annual symposia have helped to shape the course of development of "manufacturing science," as well as to create new manufacturing technologies.
（半導体製造技術は技術者の経験の総体とノウハウとIPの蓄積の合計に依存している。この分野の複雑さは技術の体系化と一般化を妨げている。変化する、そして挑戦のしがいのある新しい要求を反映する半導体製造にブレークスルーをもたらすために、半導体製造国際シンポジウム（ISSM）は1992年に発足した。
ISSMは製造の科学や技術、マネジメント規律の進歩に関する技術的なソリューションと意見を共有するために設けられた、半導体製造のプロフェッショナル達による年次会議である。シンポジウムは1992年以来日本とUSAで１年交代で開催されてきた。ISSMは半導体製造技術のための新しいコンセプトを確立しそれらを体系化され一般化された技術として促進することを目指している。ISSMの役割は半導体製造技術において「ノウハウ」から「サイエンス」へのシフトというコンセプトに挑戦することであり続けた。過去１２回の毎年のシンポジウムは「製造の科学」の開発の方向性を決め、同様に新しい製造技術を創造することに寄与してきた。）
